碳化硅/氮化镓电化学机械抛光机（ECMP）

“新型电化学机械抛光技术”是一种具有高材料去除率，表面质量高，环保高效等优异特性的技术。

新型电化学机械抛光（ECMP）的特点
1. 对碳化硅表面进行阳极氧化，实现高材料去除率和亚纳米级粗糙度
2. 独一无二的离子传电型固态复合材料衬垫
3. 只要极微量的纯水型抛光液
4. 有害废液减少环保负荷降下